フォトテクニカは，中国Grace Laser製の幅広い産業⽤途に使⽤できるピコ秒（ナノ秒）レーザーの取り扱いを開始した（ニュースリリース）。

今回取り扱うレーザーは，産業用小型ピコ秒UVレーザー，産業用高出力ピコ秒レーザー，高エネルギーピコ秒モードロックレーザー，高出力産業用ダイオード励起ナノ秒レーザーの4種。

ダイオード励起QCWピコ秒UVレーザー「GENIUSシリーズ」は，24/7の利用にも適した産業用グレードの小型ピコ秒UVレーザー。出力150mW/350mW，波長355nm，パルス繰返し80MHz，パルス幅<12ps。半導体ウェーハ検査，セルソーティング，マイクロステレオリソグラフィーに適する。

産業用高出力ピコ秒レーザー「BLAZERシリーズ」は，繰返し可変，ハイピークパワーの産業用グレードダイオード励起ピコ秒レーザー。出力10W～50W＠1064nm，波長1064nm,，高調波 532nm，355nm，パルス繰返し100kHz~1MHz，パルス幅<15ps。ガラス，サファイアやOLEDの切断，穴加工や薄膜アブレーション，マイクロマシニングに適する。

高エネルギーピコ秒モードロックレーザー「BLAZER-Pシリーズ」は，ダイオード励起マスターオシレーターとランプ励起再生増幅器から構成される高エネルギーピコ秒レーザー。出力1～200mJ＠1064nm，波長1064nm，高調波532nm，355nm，パルス繰返し1Hz~10kHz，パルス幅<30ps。非線形光学，マイクロマシニング，励起光源，衛星レーザー測距に適する。

高出力産業用ダイオード励起ナノ秒レーザー「GRAVER シリーズ」は，パルス繰返し可変，高繰返しでも短パルス動作を実現する。出力 ：35W＠1064nm，30W@532nm，波長1064nm，高調波 532nm, 355nm，パルス幅<10ns＠40kHz，パルス繰返し30kHz～150kHz，ピークパワー>70kW，PCB切断。ファインセラミックス加工，太陽電池スクライビング，タッチパネル製造に適するとしている。