「OPIE’17」登録で,自動車など「OPIC」プレナリーに招待

著者: sugi

光技術総合展「OPIE’17」と隣接(パシフィコ横浜会議センター)して開催される光技術の国際会議「OPIC」は,12の専門会議によって構成されます。

光・レーザー技術を基盤とした学術および産業に関する最先端の研究・開発を国際的に集結し,学術発表と技術展示を併設することによりもたらされる未来社会への具体的な指針を得ることを目的として毎年開催するもので,今年で第6回を迎えます。

通常,OPICへの参加には一般で¥70,000が必要ですが,光技術総合展示会「OPIE’17」へ事前登録することで,4月19日(水)の午前中に開催されるプレナリーセッションに無料で参加することができます。また,展示会場内では4月20日(木),21日(金)に,OPICのポスターセッションが特設会場で行なわれます。どちらも「OPIE’17」事前登録後は手続き不要ですので,直接会場へお越しください。

プレナリーセッション(4月19日(水))
・自動車安全システムにおける光技術
松ケ谷 和沖(デンソー ADAS推進部長)
・超精密光ファイバによる周波数コムとその計測応用
美濃島 薫(電気通信大学教授、JST)
・限界を超える:イメージングと生物学的システム操作の時空間技術を中心にして
Jeff Squier(米国 コロラドスクールオブマインズ 教授)
・Gravitational Wave Detection: Laser Interferometer Technologies in Advanced LIGO
新井宏二(Caltech, LIGO Senior Scientist)
(いずれも英語での講演)

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