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ギガフォトン,EUV集光ミラー反射率低下量を更新

ギガフォトンは,現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源について,最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源にて集光ミラー反射率低下量-0.4%/Bplsを達成し,ボトルネック解消へ大 […]