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光関連技術

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  • 理研など，X線の2光子吸収の観測に成功

    理研など，X線の2光子吸収の観測に成功

    理化学研究所は，X線自由電子レーザー（XFEL）施設「SACLA」を使い，X線の光の粒子（光子）がゲルマニウム原子に2個同時に吸収される「2光子吸収」過程の観測に成功した。 これは，理研放射光科学総合研究センター・ビーム...

    2014.02.18
  • ギガフォトン，450mmリソグラフィプロセス向けArF液浸レーザを「G450C」に納入

    ギガフォトン，450mmリソグラフィプロセス向けArF液浸レーザを「G450C」に納入

    ギガフォトンは，同社の高出力ArF液浸レーザー「GT64A」が，ニューヨーク州立大学ナノスケール理工学部（CNSE）に本部を置く，グローバル450 mmコンソーシアム（G450C）にて，初の450 mm ArF液浸リソグ...

    2014.02.17
  • ギガフォトン，EUV光源において43Wの出力を達成

    ギガフォトン，EUV光源において43Wの出力を達成

    ギガフォトンは，EUV露光用プロトタイプLPP光源（LPP光源）2号機にて，100 KHz，43 Wの出力を実現したと発表した。また，発光効率（Conversion Efficiency: CE）としては2.4%を達成し...

    2014.02.17
  • ウシオ電機，フォトレジスト不要で直接微細パターニングが可能なVUV平行光ユニットを開発

    ウシオ電機，フォトレジスト不要で直接微細パターニングが可能なVUV平行光ユニットを開発

    ウシオ電機はフォトレジストを使わずに，直接フレキシブル基材などに微細なパターニングができる真空紫外平行光（VUV）ユニットを開発し，2014年4月から研究開発向けに販売を開始する。価格は550～750万円。 ウェアラブル...

    2014.02.17
  • オーシャンフォトニクス，全光束測定システム「LFCシリーズ」の販売開始

    オーシャンフォトニクス，全光束測定システム「LFCシリーズ」の販売開始

    オーシャンフォトニクスは，米国ラブスフェア社製全光束測定システム「LFCシリーズ」の販売を開始した。 ラブスフェア社製LFCシリーズは，同社の中国工場で作製された積分球を採用した全光束測定システムで，最高品質のコーティン...

    2014.02.17
  • 大阪大学の光科学研究，東京から情報発信へ―3月6日にOpt Osaka 2014 in Tokyo開催

    大阪大学の光科学研究，東京から情報発信へ―3月6日にOpt Osaka 2014 in Tokyo開催

    この3月6日に大阪大学未来戦略機構シンポジウム「Opt Osaka 2014 in Tokyo」が開催される。これに先立ち，2月14日に大阪大学は都内で記者会見に臨んだ。 大阪大学がこうしたシンポジウムを東京で開催するの...

    2014.02.17
  • ローム，業界最高の発光効率190 lm/Wを達成した直管形LEDランプを発売

    ローム，業界最高の発光効率190 lm/Wを達成した直管形LEDランプを発売

    ロームは，オフィスや店舗など法人向け製品として，光の取り出し効率を向上させる光学設計技術と電源回路設計技術を駆使し，業界最高の発光効率190lm/Wを達成した直管形LEDランプ「R-FAC40MN1」を開発，2月からサン...

    2014.02.14
  • 東レ，単層カーボンナノチューブ薄膜トランジスタで世界最高レベルの移動度を達成

    東レ，単層カーボンナノチューブ薄膜トランジスタで世界最高レベルの移動度を達成

    東レは，単層カーボンナノチューブ薄膜トランジスタ（Carbon Nano-Tube Thin Film Transistor ：CNT-TFT）において，塗布型TFTとしては世界最高レベルとなる移動度13 cm2/Vs，...

    2014.02.14
  • 三菱電機，「長崎田手原メガソーラー発電所」向け約13.2MW太陽光発電設備工事を受注

    三菱電機，「長崎田手原メガソーラー発電所」向け約13.2MW太陽光発電設備工事を受注

    三菱電機は，三菱商事がメガソーラー発電事業として長崎県長崎市で推進する「長崎田手原メガソーラー発電所」向けに，約13.2MWの太陽光発電設備工事を受注した。 受注内容は，太陽電池モジュール（単結晶261W×5 万554 ...

    2014.02.14
  • 三菱電機，パルスCO2レーザによる微細（Φ25μm）ガラス穴あけ加工技術を開発

    三菱電機，パルスCO2レーザによる微細（Φ25μm）ガラス穴あけ加工技術を開発

    三菱電機は，パルスCO2レーザを使用し，直径が最小25μmの微細穴をガラス基板へ形成する加工技術を開発した。 これまでCO2レーザの最小ビーム径はレンズの有効径などにより40μmレベルが限界となっていたが，今回，同社独自...

    2014.02.14

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