光の特徴の一つは2次元的な結像処理，即ち複数点を同時に処理できる能力である。球面収差とコマ収差は望遠鏡や顕微鏡のように観察対象を画面の中心に持ってきて観察するタイプの，画角の小さい結像を重視する装置で重要である。これに対し画角の大きいカメラレンズの歴史は軸外の結像性能との戦いであった。軸外収差としてコマ収差も問題となるが，像面については別な議論をしなければならない。
像面特性の描き方は第4.2.4項で説明した。種々のレンズの非点収差カーブを示したのが図42で1）d線とg線での特性が重ねて示してある。実線で描かれたsagittal（S）像面はどれも球面収差のフルコレクションのような形状をしている。点線のmeridional（M）像面はS像面よりけられが大きいため挙動が複雑で，Sと同じようだったり，逆方向に反っていたりと色々な形状をしている。
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6.4 光計測の分解能 光で画像を使う計測系の分解能について考えてみる。本連載第12回3.5節で光学系の解像性能について述べた。分解能というと直ぐにRayleighの式といわれる0.61λ/NAが想起される。本連載第26 […]
6. 高精度光計測 光の大きな応用分野に光計測がある。ここまでは光工学の主要素として結像を主に論じてきた。光計測も別の主要素の一つで，結像も含め，光速，直進性，波長，偏光，色による物質との関係など，光の持っているあらゆる […]
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5.6.3 円弧照明光学系 投影光学系が6枚で構成されているように，EUVでは照明系も少ない枚数で構成することが求められる。一方，本連載第26回5.4.2項の表11に示したように，照明系は多岐な要求を実現することを求めら […]
5.6 EUV光学系 半導体露光装置は光による微細加工の代表例である。微細加工における最小解像線幅Rはこれまで何度も出てきた関係式 （39） で示される。式（39）はRayleighの式と言われ，Rを小さくするには短 […]
5.5 ガウスビームの特性 筆者の恩師である小倉磐夫先生は「エレクトロニクスの本質は増幅にあり，増幅作用のある技術こそが大きく成長する。自分がレーザの研究を始めたのもそれがきっかけであった」という主旨のことをおっしゃった […]
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5.4 照明系 光学設計というと一般には結像レンズを設計するというイメージがある。実際，光学設計者として自分の設計したレンズで予想通りの像が形成された時のうれしさを感じた方もいらっしゃるかもしれない。 実際に光学装置を作 […]
5.3 無収差光学系 光学設計では採用した光学系が持っている特性，即ち高次収差の特性に従って低次の収差を出してバランスする作業が行われる。対象となる収差は球面収差であったり，画角特性であったりするので，用途により採用され […]
