日立,EUV向け測長SEMで大河内記念生産賞受賞

日立製作所と日立ハイテクは,大河内記念会が主催する「第69回(令和4年度)大河内賞」において,「極端紫外線露光世代の半導体測長SEMの開発と高精度化」で「大河内記念生産賞」を受賞したと発表した(ニュースリリース)。

大河内賞は,生産工学,生産技術,生産システムの研究ならびに実施などで,学術の進歩と産業の発展に大きく貢献した顕著な個人,グループまたは事業体を表彰する賞で,大河内記念生産賞は,特に,会社,工場などの事業体に対して贈られる。

近年,半導体デバイスの微細化が進む中,ウエハー上に形成された微細パターンの寸法計測に特化した測長SEMは0.1nmレベルの精度と安定性が要求されている。

今回の受賞は,端紫外線(EUV)露光世代の半導体パターン計測用に開発した測長 SEM「CG7300」を対象として,高精度化,安定性,デジタル技術装置の3点に着目した技術開発に対して,その成果を評価したもの。

具体的には,高精度なフォーカス合わせを実現する対物レンズ,電子ビーム揺れ抑制技術および電子ビーム形状補正デジタル処理技術を開発。これにより,個別装置間のパターン寸法計測値差(機差)を従来機種比で約10%精度向上(機差:0.10nm以下レベル)に成功し,世界最高水準の半導体パターン検査技術を確立した。

なお,表彰式は3月22日に日本工業倶楽部会館にて行なわれた。両社は今後も半導体パターン測長SEMのさらなる高精度化,高安定化をめざすとしている。

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