ギガフォトンは，最先端ArF液浸リソグラフィ光源「GT66A」が，世界の半導体メーカーで本格的に稼働していることを発表した（ニュースリリース）。

昨今，デジタル機器やクラウド設備が世界規模で急速に増加し，これらに使われる半導体の需要も激増している。

さらに，企業におけるDXの浸透，カーボンニュートラル社会に向けたEVの増産，再生可能エネルギーへのシフトチェンジ等，社会インフラの中枢を半導体が担う中，その需要はさらに加速しているとし，特に自動運転やハイパフォーマンスサーバーのように，高速計算と低消費電力を併せ持つハイエンドデバイス需要の増加はこの状況に拍車をかけているという。

この製品は，そうしたハイエンドデバイス用半導体が必要とする5nmノード，および次世代のノードの製造にも対応するモデル。スペックルコントラストを低減（30%）することで，レイアウトとレジスト露光のパターンがずれるEPEを低減した。

それにより，壁面の微細パターンの凹凸サイズを表すLERや，凹凸で生じるパターン幅のバラつきを示すLWRを抑え，イールド（歩留まり）の向上が期待できる。加えて高耐久性部品の導入により，メンテナンスサイクルを30%延長したことで，装置のアベイラビリティが向上し，高度な生産性の実現も可能だとする。

この製品は，最先端半導体の安定的で歩留まりのよい生産をゴールに，特に最先端のプロセスノードの生産性向上のため市場に投入されたものだとしている。