製品・開発品

DNP，3nm相当EUVフォトマスク製造プロセス開発

大日本印刷（DNP）は，半導体製造の最先端プロセスのEUVリソグラフィに対応した，3nm相当のフォトマスク製造プロセスを開発した（ニュースリリース）。 近年，EUV光源を用いるEUVリソグラフィの技術が確立し，2023年 […]

2023年12月13日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

日立ハイテク，高精度電子線計測システムを発売

日立ハイテクは，高精度電子線計測システム「GT2000」を発売すると発表した（ニュースリリース）。 半導体製造プロセスの進化に伴い，N2（2nm世代）およびA14（14Å世代）デバイスの研究開発が行なわれている。また，最 […]

2023年12月13日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

ニコン，同社最高生産性のArF液浸スキャナーを発売

ニコンは，ArF液浸スキャナー「NSR-S636E」を2024年1月に発売する（ニュースリリース）。 より大容量のデータをいっそう高速に処理・通信するための高性能な半導体が必要不可欠となっている。 半導体の高性能化には回 […]

2023年12月12日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

ギガフォトン，微細アブレーション加工用光源を納入

ギガフォトンは，微細アブレーション加工用光源「G300K」を，パッケージ基板メーカーのオーク製作所に設置したと発表した（ニュースリリース）。 同社では半導体リソグラフィ用光源の技術を応用し，半導体後工程用の微細アブレーシ […]

2023年12月12日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

KDDIら，曲がる太陽電池を活用した基地局を検証

KDDI，KDDI総合研究所，エネコートテクノロジーズは，2024年2月から，曲がる太陽電池「ペロブスカイト型（ペロブスカイト太陽電池）」「CIGS型（CIGS太陽電池）」を活用した「サステナブル基地局」の実証実験を群馬 […]

2023年12月12日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

東レエンジMI，半導体ウエハー外観検査装置を発売

東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー（東レエンジMI）は，半導体ウエハーの高精度検査において，業界最高の検査速度を有する半導体ウエハー外観検査装置「INSPECTRA SR-Ⅳ」を開発し，2023年12月から販 […]

2023年12月11日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

ams OSRAM，超高輝度LEDにRGBバージョンを追加

ams OSRAMは，ロープロファイルの超高輝度LEDのOSTAR Projection Compactファミリーに赤，緑，青のカラーバリエーションを追加したと発表した（ニュースリリース）。 この製品は，高い電流密度特性 […]

2023年12月11日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

島津，クラス最高感度の赤外分光光度計を発売

島津製作所は，フーリエ変換赤外分光光度計「IRSpirit-X」シリーズ3機種「IRSpirit-LX」「IRSpirit-TX」「IRSpirit-ZX」を12月7日に発売すると発表した（ニュースリリース）。価格は29 […]

2023年12月07日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

トムラ，プラスチックフレーク用新型選別機を発表

独トムラは，プラスチックフレークを高スループットで選別する新型「INNOSORT FLAKE」を発表した（ニュースリリース）。 新製品は，強力なセンサーの組み合わせにより，材料の種類と色でポリマーを選別し，不純物を除去し […]

2023年12月04日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品

SSS，532万画素SWIRイメージセンサー発売

ソニーセミコンダクタソリューションズ（SSS）は，産業機器向けに。業界最多となる有効約532万画素のSWIR（Short-Wavelength Infrared/短波長赤外）イメージセンサー「IMX992」を商品化する（ […]

2023年11月29日 ニュース ,光関連技術 ,製品・開発品