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東芝とSKハイニックス,ナノインプリントによる次世代半導体開発を共同で推進

東芝とSKハイニックス,ナノインプリントによる次世代半導体開発を共同で推進

東芝は,次世代半導体露光技術「ナノインプリントリソグラフィ」(以下,NIL)の開発を加速すべく,昨年12月に基本合意した韓国SKハイニックス社との共同開発について,正式契約を締結したと発表した(ニュースリリース)。今年4 […]