レーザーテックは，高輝度EUVプラズマ光源「URASHIMA」を新たに開発したと発表した（ニュースリリース）。

同社では，2019年に世界初となるアクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTIS A150」をリリースしている。

この製品は先端半導体デバイス用のマスク製造プロセスやマスク運用において既に不可欠な装置として，世界中のマスクショップやウェハファブへの導入が進んでいるという。

新製品の光源は，高速回転する液体状のSnにレーザーを照射してEUV光を発生させるLPP方式を採用した。ACTISの光学系に最適化した設計によってペリクルへの入熱を最小限に抑えることで，ペリクルの劣化を防止しながらペリクル付きマスクの高輝度照明による高感度検査を可能にしたとする。

Snを使ったEUV光源では，デブリの抑制が重要な課題のひとつ。この製品では，同社が独自に開発したデブリミチゲーションシステムを用いることで，マスクがデブリで汚染されることのないデブリフリーのEUV光源を実現した。さらに照明光学系のコンタミネーションも抑制し，従来を上回る生産性を実現しているという。

同社は今後，アクティニックEUVパターンマスク欠陥検査装置「ACTIS シリーズ」にこの光源の適用を進め，さらなる性能向上に努めていくとしている。