ギガフォトン,新製品のKrFエキシマレーザー出荷

ギガフォトンは,半導体製造リソグラフィ用光源の技術を応用したGIGANEXシリーズの新製品,KrFレーザー「G300K」を3月に出荷した(ニュースリリース)。

この波長248nmのKrFエキシマレーザーは,同社のリソグラフィ用光源用KrFレーザーの技術をベースに,微細アブレーション等の「加工の最適化」をコンセプトとして,高安定性,99%以上の高稼働率,高出力を維持しながら,低価格を実現したモデル。

複数のチップで構成された次世代の半導体パッケージでは,外形寸法を小さくするとともに,動作周波数や帯域幅などを高く維持すること,電力効率を高めること,製造コストを低く維持することなどが求められている。

近年これらの要求を叶えるパッケージング技術の微細化が着目されており,そのためには層間を接続するビア穴の微細化が必須となっている。

この加工を高速かつ安価に行なうことができるとして,有機絶縁膜の微細アブレーションビア加工が注目されているが,その光源として,この製品は微細化に有利な短波長および高スループット実現と高出力を両立し,低コスト化をサポートするとしている。

その他関連ニュース

  • 島津,青色半導体レーザー光源で世界最高6kWを達成 2024年05月22日
  • 京大,レーザーで超高品質な極浅構造を作成 2024年05月22日
  • 【OPIE】金門光波,He-Cdレーザー装置を展示
    【OPIE】金門光波,He-Cdレーザー装置を展示 2024年04月26日
  • NEDO,高効率・高品質レーザー加工技術開発に着手 2024年04月05日
  • ギガフォトン,最新ArF液浸光源機種を出荷 2024年04月02日
  • NVIDIA,計算機リソグラフィを生成AIで大幅高速化 2024年03月21日
  • 東北大,レーザー微細加工の分解能を飛躍的に向上 2024年03月12日
  • 京大ら,高出力狭線幅フォトニック結晶レーザー実現 2024年02月28日