ギガフォトン,液浸露光装置向けArFエキシマレーザーを出荷

ギガフォトンは1月,最先端の液浸露光装置向けArFエキシマレーザー、「GT65A」1号機を出荷したと発表した(ニュースリリース)。この製品はレーザーの安定稼働とプロセスマージンの向上を提供し,リソグラフィ装置の生産性向上に大きく貢献するとしている。

この製品の特徴であるダウンタイム最大50%の改善は,主要モジュールであるチャンバの寿命を30%延長させたことと,これまで同社が積み上げてきた経験とノウハウをベースとしたメンテナンスの効率化により実現した。

また,スペクトル制御機能である安定化技術「eMPL Solid」と,コントロール機能「hMPL」は,CDの均一性の向上およびプロセスの最適化と拡張性を可能にした。

さらに,ヘリウムガスの無使用化を実現。これにより,環境負荷低減だけでなく,将来におけるヘリウムガスの供給不足や価格高騰の際のリスクを大幅に減らし,顧客のサステイナビリティ向上とCSR活動に貢献するとしている。

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