光技術展総合示会「OPIE’17」（会場：パシフィコ横浜 会期：4月19日～21日）は全ての会期を終えました。今回の出展社数は351社・団体，小間数は472小間，会期を通じでの来場登録者数は15,214名（実際の来場者数は，再来場者が含まれるため左記登録者実数を上回る）を数え，いずれも単独開催として過去最高となりました。（初日，2日目の様子）。ここでは速報では紹介しきれなかった，編集部が「気になった」展示を報告します。
■クラレ（ブースNo.K-22）「微細パターン付フィルム」
化学材料メーカーである同社は，光学向け製品も取り扱っていることのPRと市場ニーズを探るために出展しました。紹介した「微細パターン付フィルム」は，UV透過樹脂とUV硬化樹脂を重ね合わせ，微細パターンの付いたスタンパーで形成しながらUV硬化を行なう手法で，ロール・ツー・ロールによる大量生産を可能にしています。モアレや光学レンズなど任意のパターンを作ることが可能で，パターンのサイズは20～200㎛。応用としてHUDやHMD向けのフィルムを展示・紹介していました。特にHMDは目の前のディスプレーパネルをレンズで拡大するため画素パターンが見えてしまうことが没入感を妨げる要因となっていますが，レンズパターン付フィルムの貼り付けにより画素パターンを完全に見えなくするデモを行なっていました。
■日本レーザー（ブースNo.C-2）「超微細3Dプリンター」
3Dプリンターには極小の構造物をプリンティングする装置もあります。同社が取扱う独nanoscribeはカールスルーエ工科大学から2007年にスピンアウトした企業で，2光子吸収を応用した超微細3Dプリンターを製造しています。この製品は780nmのフェムト秒レーザーを用いた2光子吸収により，200nm～の精度を持つ造形を実現しています。デモでは作製した高さ2mm程度のエッフェル塔を展示（写真上）。骨組みまで精工に再現していますが，残念ながら写真では見えません。主にバイオ用途における細胞の足場の作製や，メカニカルメタマテリアルにも応用されているそうです。またスイスFEMTOprintのガラス3Dプリンターはガラスの母材を2光子吸収によるアブレーションで改質，後に薬液でエッチングすることで微細構造を作製する装置です。厳密には3Dプリンターとは言えませんが，中空構造も作れるのが特長です。加工分解能は1㎛。マイクロ流路や光学部品（写真下）の製造などに使われているそうです。
■LIQUID INSTRUMENTS（ブースNo.H-33）「Moku:Lab」
オーストラリア国立大学のスピンアウトであるLIQUID INSTRUMENTSが展示していたのは，オシロスコープ，スペクトラムアナライザ，波形発生器，位相計，ロックインアンプなど，7つの測定装置・機能を1台にまとめたポータブルな測定器。高度なデジタル処理によるもので，本体にディスプレーと操作パネルを兼ねるiPadを装着して使用します。2チャンネルのアナログインプット/アウトプットを装備しており，Wi-Fiとイーサネットによって通信できるほか，測定したデータは内蔵のSDカードに記録，またはメールで送信したり，ドロップボックスやクラウドに格納することもできます。機能は随時増やすとしていて，最終的には20種類くらいの計測や機能が1台で使える予定だそうです。価格は5,000米ドル。まさにIT時代の測定装置です。
