ギガフォトンは，新製品として最先端の液浸露光（リソグラフィ）装置向けArFエキシマレーザー「GT65A」を発表した（ニュースリリース）。2017年内の出荷を目指す。

この製品は，同社のArFプラットフォームの特徴である，優れたスペクトルコントロール技術をさらに進化させることにより，1Xnm以下の微細化プロセスをサポートする。また環境への負荷低減技術を標準搭載しており，あらゆる運転条件下でのヘリウムフリー運転および同社のネオンガスリサイクル装置である「hTGM」対応を標準装備した。

GT65Aのスペクトルコントロールについては，二つの最新技術を標準搭載した。一つは，従来機種と比較してスペクトル性能の安定性を4倍高めた「eMPL Solid」。これはスペクトル幅（E95）の安定性を，露光フィールドごとに±5fm（フェムトメートル）という高いレベルで実現し，CD均一性の向上に貢献するもの。

もう一つは，スペクトル幅を450fmから200fmまでコントロールする「hMPL」。これはスペクトル幅をプロセスに従って最適化することにより，プロセスウィンドウの最大化に貢献するという。

また，標準装備している，同社のEcoPhotonTMプログラムに沿って開発されたヘリウムフリーおよびhTGM技術は，環境負荷低減だけでなく，ヘリウムガス，ネオンガスにおける将来の供給不足や価格に対するリスクを大幅に減らすことができるとしている。