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全4122件中 11〜20件目を表示

  • レーザービーム M²測定における課題と対応策

    フォトニクス業界では、M2パラメーターは特にガウス分布に近い出力を持つレーザーにおいて、レーザービーム品質を評価する指標として広く用いられています。レーザーメーカーにとって、M2を正確に測定することは、製品性能の検証や生...

    2025.12.22

  • オキサイドパワークリスタルなど、結晶欠陥が少ない製法による6インチSiCウエハーを開発

    オキサイドパワークリスタル、マイポックス、UJ-Crystal、アイクリスタル、産業技術総合研究所、名古屋大学の開発グループは、結晶欠陥が少ない溶液成長法を用いて、6インチのp型SiCウエハーの試作に成功したと発表した（...

    2025.12.19

  • ウシオ、解像力アップと重ね合わせ精度を向上した一括投影露光装置の受注開始

    ウシオ電機は、ウエハー向け一括投影露光装置UX-4シリーズの新製品として、φ6/φ8インチに対応し、解像力L/S=2.8μmと重ね合わせ精度向上を実現させた「UX-45114SC」を、2026年Q1より受注開始すると発表...

    2025.12.19

  • 富士フイルム、世界初のKrF露光対応PFASフリー材料でイメージセンサーの超微細化と高感度化を両立

    富士フイルムは、イメージセンサー用カラーフィルター材料「Wave Control Mosaic」の新製品として、世界で初めてKrF露光に対応した材料を発売した（ニュースリリース）。 イメージセンサーはスマートフォンや車載...

    2025.12.18

  • コニカミノルタ、低照度環境下でも高速かつ高精度測定が可能な分光放射照度計を発売

    コニカミノルタは、低照度環境下でも高速かつ高精度な測定を可能にする分光放射照度計「CL-700A」を発売すると発表した（ニュースリリース）。 分光放射照度計は、日常生活に欠かせないLEDやOLED光源の明るさや色に加え、...

    2025.12.15

  • ニコン、半導体ウエハー計測装置の最新機種を開発

    ニコンは、露光プロセス前のウエハーを計測し、その補正値を露光装置に反映させることで高い重ね合わせ精度を実現する、アライメントステーションの最新機種「Litho Booster 1000」の開発を進めていると発表した（ニュ...

    2025.12.12

  • 大同特殊鋼、ロボットの小型化に貢献する光学式エンコーダー用赤外点光源LEDを開発

    大同特殊鋼は、超微小発光窓径φ35μm、かつ 125℃の高温環境下での動作に対応する赤外点光源LED「MED8P76A」を開発した（ニュースリリース）。2025年12月よりサンプルの受注受付を開始。  近年、も...

    2025.12.11

  • SCREEN、先端半導体パッケージに対応する直接描画露光装置を開発

    SCREENセミコンダクターソリューションズは、先端半導体パッケージに対応する直接描画露光装置の最新モデル「DW-3100」を開発し、2025年12月に販売を開始すると発表した（ニュースリリース）。 近年、AI半導体の急...

    2025.12.10

  • ギガフォトン、先端半導体パッケージ用加工向けエキシマレーザーを日本企業に設置

    ギガフォトンは、半導体パッケージ加工向けエキシマレーザーを日本国内で最先端半導体の研究開発を行なう企業に納入し、11月に装置の設置を完了したと発表した（ニュースリリース）。今回の設置では、同社の最新光源となる『G300K...

    2025.12.08

  • 浜ホト、300mmウエハーを5秒で測定する面内膜厚計の受注を開始

    浜松ホトニクスは、300㎜半導体ウエハーを5秒という高速測定が可能な「HyperGauge　面内膜厚計 C17319-11」を開発した（ニュースリリース）。 半導体製造工程では、チャンバ内のピン温度などの影響により、ウエ...

    2025.12.05

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