eBeam,EUVマスク検査の実現性を高評価

電子ビーム技術の業界団体である米イービームイニシャチブ(eBeam Initiative)は2019年9月16日(現地時間),第8回目となる業界の識者の認識に関する年次調査が終了したと発表した(ニュースリリース)。

業界識者の認識に関する調査結果では,深層学習は早晩半導体事業での購買活動の判断基準になるとし,大半(61%)が,2020年の末までには,製品やサービスの購入にはそれらが深層学習の内容をどれだけ含むかによって購入判断を行なう可能性が少しはある,あるいは大いにあると回答した。

また,自分たちの顧客が深層学習への取り組みを購買判断にしているかとの質問には,大半(76%)の識者が少しはそうであろう,あるいは大いにそうであろうと答えている。他の認識調査では,EUV露光波長でのフォトマスク検査やEUVペリクルが量産ラインで実現されるであろうとの結果となった。

さらにマスクメーカー調査では,EUVマスクの生産歩留まりは74%で,11nmルールまでのマスクへのマスクプロセス補正(MPC)の適用が44%だった。最先端ルール対応のフォトマスクのターンアラウンド(TAT)が非常に長い状況は変わっていないという。

マスクメーカー調査結果からの他の主要点として,参加11社は調査期間の12ヶ月で599,536枚のマスクを出荷し,VSB型マスク描画機のマスク描画時間の平均は8.64時間,EUVマスクの出荷量は2,789枚,7nmから11nmまでのグランドルールに対応するマスクのTATの平均は11.07時間で32nmから45nmのグランドルールのマスクのTATの2倍以上としている。

業界の識者の認識調査結果からの他の主要点としては,回答者の82%が,2022年までにEUVペリクルが量産に投入されると予想し,EUVの露光波長によるマスク検査の実現可能性への支持は高く,実現不可能との回答は5%のみだった。

また,回答者の75%が逆変換露光技術(ILT)はEUVとの組み合わせで2022年までに量産で最低1層は使用されるであろうと予想した。

昨年の調査結果に比べ,量産における逆変換露光技術(ILT)の使用が増加している様だとの見方が増え,いまだどのマスク層でも逆変換露光技術(ILT)は使用されていないとの見方は昨年の22%から本年の12%に減少した。

さらに,2022年末までに新たに購入されるマスク露光機の50%はマルチビームマスク露光機になると予想している。

その他関連ニュース

  • 阪大ら,次世代半導体の新規価電子制御法を提案 2021年08月26日
  • 2021年Q2シリコンウエハー出荷面積,前期比6%増 2021年07月29日
  • TEL,次世代EUV露光装置に塗布現像装置を導入 2021年06月11日
  • 産総研,300mmウエハーに単結晶記憶素子を集積化 2021年06月02日
  • 名大ら,n型半導体となる電子不足π共役分子を創出 2021年05月20日
  • NTTら,半導体でアンドレーエフ反射の観測に成功 2021年05月17日
  • 阪大,GaN半導体の貫通転位を非破壊で識別 2021年04月30日
  • 金沢大ら,ダイヤモンドウエハーの平坦技術を開発 2021年04月21日