SEMIは4月10日（米国時間），2016年の半導体フォトマスクの世界市場が33億2千万ドルとなり，2018年には35億7千万ドルに達することが予測されると発表した（ニュースリリース）。

それによると，フォトマスク市場は2015年に1%，2016年に2%の成長を遂げ，2017年には4%，2018年には3%の成長がそれぞれ見込まれる。フォトマスク市場をけん引しているのは，45nm未満の微細プロセスであり，地域的には半導体の製造が拡大するアジア太平洋地域。台湾が6年連続で最大市場となり，今回の予測の範囲においても最大市場となることが予測されるという。

33億2千万ドルのフォトマスク販売額は，ウエハープロセス材料市場の13%を占め，シリコンウエハーとガスに次ぐ大きさとなる。過去との比較では，2003年のウェーハプロセス材料市場に占めるフォトマスクの比率は18%だった。

もうひとつの注目されるトレンドは，内製マスクショップの重要性が高まっていることだという。2011年から2012年にかけての集中的な設備投資で弾みをつけ，その後も内製マスクショップは外販マスクサプライヤーに対して市場シェアを拡大した。全フォトマスク市場において2015年の56%から昨年は63%を占めるに至った。2003年のフォトマスク市場に占める内製マスクショップの比率は31%だった。