ギガフォトンのEUV光源，発光効率4.0%で250W出力を達成

NEDOプロジェクトにおいて，ギガフォトンは，現在開発中の極端紫外線（EUV）スキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源のプロトタイプ機で発光効率4.0%，最先端半導体量産適用可能レベルである250Wの発光出力，および130W以上の出力で119時間の連続運転に成功した（ニュースリリース）。

IT機器の高性能化・省電力化・低コスト化は，半導体をより小さくする微細化技術によって実現される。IoT社会の実現のためにも，さらなる微細化技術が求められている。

昨年，NEDOの「戦略的省エネルギー技術革新プログラム事業」において，ギガフォトンは，高出力検証機（EUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源のプロトタイプ機）にて，エネルギー安定性平均0.5％以下，ロジック生産適用可能レベルである108Wの発光出力で24時間の連続運転に成功した。

これは，これまでNEDOの助成等により開発を続けてきた，20μm以下の微小ドロップレットの供給技術，短波長の固体レーザーによるプリパルスレーザーとCO₂レーザーによるメインパルスレーザーを組み合わせ，磁場を使ったデブリ除去技術をより進化させ，さらにエネルギー制御技術の改善により，量産工場での使用を模擬した運転パターンにて成功したもの。

さらに，高出力の連続運転を目指して研究開発に取り組み，今回，発光効率84.0%で最先端半導体量産適用可能レベルである250Wの発光出力を，また130W以上の出力で119時間の連続運転にも成功した。

この成果により量産対応EUVスキャナーの実現に向けて大きく進捗したとしている。