ギガフォトンは，同社の高出力ArF液浸レーザー「GT64A」が，ニューヨーク州立大学ナノスケール理工学部（CNSE）に本部を置く，グローバル450 mmコンソーシアム（G450C）にて，初の450 mm ArF液浸リソグラフィスキャナ光源として使用されることになったと発表した。このレーザはCNSE内のG450Cの施設での技術デモンストレーションと同様に，G450Cの施設内外での開発及び試験に使用されることになる。GT64AのCNSEへの搬入は2015年4月を予定。
GT64Aは，非常に高いレーザー発振効率レベルを有し，450 mmウェーハの製造用途におけるマルチパターニングのために最大120 Wの出力を達成することができる。また光エネルギー出力は顧客のプロセスに基づいて自動的に最適なレベルに調整でき，大幅に向上した重ね合わせ精度，クリティカルディメンション制御，およびラインエッジラフネスの低減と組み合わせて，安定したエネルギー，スペクトル幅，波長，ビーム形状を実現する。
さらに，GT64Aは製品コンセプトとして環境性能に重きを置いており，電気，ガス，冷却（設備）リソースの消費およびコストを最小限にしている。
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