ニコンはシンガポール科学技術研究庁A*STARの先端的半導体研究機関・Institute of Microelectronics（IME）と，最先端光リソグラフィ技術における協力関係を構築すると発表した。この協力は共同の研究機関を今後両者で立ち上げることも含むものとしている。
具体的にはニコンとIMEはArFドライ及び液浸リソグラフィ技術の20nm以下のプロセスへの延伸を加速するために，マルチプルパターニングやDirect Self Assembly（DSA：誘導自己組織化）等の技術において協力していく。これらの技術はロジック，高密度メモリ，埋め込み型不揮発メモリ，超高速エレクトロニクス，ナノフォトニクス，ナノエレクトロメカニクスを含む先端的な製品への適用が期待されている。
