13:00～13:10 応用電子物性分科会幹事長挨拶
(1)13:10～13:50「先端半導体製造におけるデータ駆動プロセス制御の最前線」
須藤 岳（ラピダス㈱）
(2)13:50～14:30「最新の Si ウェーハ技術の動向と日本の強み」
泉妻 宏治（グローバルウェハーズ・ジャパン㈱）
(3)14:30～15:10「先端 CMOS トランジスタのチャネル材料と構造」
高木 信一（帝京大学）
― 休憩（15 分）―
(4)15:25～16:05「日本半導体の復活へ向けて、
先端パッケージングの方向を探る」
三宅 賢治（オフィス三宅）
(5)16:05～16:45「最先端半導体工場におけるスマート化とグリーン化」
井ノ本 実（キオクシア㈱）
お問合せ先：
大見 俊一郎（科学大）
E-mail：
E-mail: ohmi@ee.e.titech.ac.jp
