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光の基本的なパラメータの定義から，波長特性，光学素子，幾何光学など，光工学を操る上で欠かせない物理や知識を，基礎から丁寧に解説します。

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設計特論12—高精度光計測2—

6.4　光計測の分解能 光で画像を使う計測系の分解能について考えてみる。本連載第12回3.5節で光学系の解像性能について述べた。分解能というと直ぐにRayleighの式といわれる0.61λ/NAが想起される。本連載第26 […]
2025年03月10日 光工学の実際
光工学の実際　最終回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論11—高精度光計測1—

6.　高精度光計測 光の大きな応用分野に光計測がある。ここまでは光工学の主要素として結像を主に論じてきた。光計測も別の主要素の一つで，結像も含め，光速，直進性，波長，偏光，色による物質との関係など，光の持っているあらゆる […]
2025年02月10日 光工学の実際
光工学の実際　第32回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論10—偏光—

5.7　偏光 偏光は異方性のある結晶や偏光子を使わないと検出できない現象で研究スタートが比較的遅れた分野である。しかし現在，偏光サングラスは極めてポピュラーな存在となり，偏光顕微鏡を始めとする観察への応用以外でも，偏光は […]
2025年01月10日 光工学の実際
光工学の実際　第31回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論9—EUV光学系2—

5.6.3　円弧照明光学系 投影光学系が6枚で構成されているように，EUVでは照明系も少ない枚数で構成することが求められる。一方，本連載第26回5.4.2項の表11に示したように，照明系は多岐な要求を実現することを求めら […]
2024年12月10日 光工学の実際
光工学の実際　第30回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論8—EUV光学系1—

5.6　EUV光学系 半導体露光装置は光による微細加工の代表例である。微細加工における最小解像線幅Rはこれまで何度も出てきた関係式 　　（39） で示される。式（39）はRayleighの式と言われ，Rを小さくするには短 […]
2024年11月10日 光工学の実際
光工学の実際　第29回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論7—ガウスビームの結像—

5.5　ガウスビームの特性 筆者の恩師である小倉磐夫先生は「エレクトロニクスの本質は増幅にあり，増幅作用のある技術こそが大きく成長する。自分がレーザの研究を始めたのもそれがきっかけであった」という主旨のことをおっしゃった […]
2024年10月10日 光工学の実際
光工学の実際　第28回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論6—照明系2—

5.4.5.3　眼底カメラ 照明光学系ではコード化が重要と述べたが，照明系の設計に特に重点が置かれる例の一つが眼底カメラである。眼底（網膜）は目の一部というだけでなく脳の一部でもあり，脳の血管の状態を外部から直接観察でき […]
2024年09月10日 光工学の実際
光工学の実際　第27回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論5—照明系1—

5.4　照明系 光学設計というと一般には結像レンズを設計するというイメージがある。実際，光学設計者として自分の設計したレンズで予想通りの像が形成された時のうれしさを感じた方もいらっしゃるかもしれない。 実際に光学装置を作 […]
2024年08月12日 光工学の実際
光工学の実際　第26回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論3—無収差系1—

5.3　無収差光学系 光学設計では採用した光学系が持っている特性，即ち高次収差の特性に従って低次の収差を出してバランスする作業が行われる。対象となる収差は球面収差であったり，画角特性であったりするので，用途により採用され […]
2024年06月10日 光工学の実際
光工学の実際　第24回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義

設計特論2—平行平板—

5.2　平行平板の光学 平行平板は光学素子の出発点で，シールガラス，ビームスプリッタとしても用いられる最もポピュラーな部品である。本章では色々な側面から平行平板の作用を解析してみる。 5.2.1　平行平板と近軸値 屈折率 […]
2024年05月07日 光工学の実際
光工学の実際　第23回 著者：ASリソグラフィコンサルティング　鈴木章義