山形大学は，科学技術振興機構（JST）大学発新産業創出プログラム（START）とその事業プロモーターである野村ホールディングスの支援を受け，世界最大クラスの室温金属酸化膜原子層コーティング装置を開発した（ニュースリリース）。

金属酸化物によるコーティング膜は，薬品による腐食，湿気による酸化から対象物を守る保護膜として活用され，電子部品や精密部品の長寿命化をもたらす。半導体製造においては，絶縁膜を形成するために金属酸化物を用いたコーティング技術が活用されている。

この技術は，有機金属ガス（金属材料）を対象物に付着させ，その表面に酸化ガスを吹き付けることで，1nm以下の薄い金属酸化物を形成し，これを繰り返すことでコーティング膜を形成する技術で，原子層堆積法（Atomic Layer Deposition）と呼ばれる。従来，この処理には，300℃程度の熱処理が必要とされ，熱に弱い部品や精密機械への適用が課題となっていた。

研究グループは，この原子層コーティング技術に，独自に開発したプラズマ技術を活用し，処理温度を室温（25℃）にまで下げることに成功した。これにより，特に熱に弱い部品，例えば有機エレクトロニクス製品にも適用が可能となった。

従来，室温での原子層堆積技術は同大を除いて実用例はなかった。同大では基礎研究用の20㎝程度の狭小容器で開発を進めてきたが，産業での実用化のための装置の大型化と調整研究を進め，小さな電子部品であれは数千個程度，1m規模の長尺な部品を一括処理することが可能になった。装置の大型化により，小規模な生産現場における実用が可能となった。

この技術は，電子部品，有機EL，有機太陽電池の長寿命化，金属精密部品の耐久性向上に貢献することが期待される。同大ではこの技術を，2018年度に起業予定の大学発ベンチャーで実用・応用展開を進めるとしている。