ウシオ電機は，フィンランドPicosun Oy（ピコサン）と日本における販売代行契約を締結し，ピコサンのALD成膜装置（原子層堆積装置）の販売を開始した（ニュースリリース）。
近年，MEMS分野を中心に高アスペクト比や微細三次元構造体が求められる半導体関連デバイス製造では，より精密かつ薄い膜厚形成技術が求められており，成膜方法の1つであるALD（原子層成長法）が注目されている。
ピコサンは，1974年に世界で初めてALDの技術開発に携わったメンバーを中心に設立されたALD成膜装置の専業メーカーで，より均一な成膜技術とカスタムメイド対応を特長としている。
今回の契約締結によりウシオ電機は，同社の露光装置「UXシリーズ」などと，ピコサンのALD成膜装置を組み合わせることで，様々な半導体関連デバイス分野における微細化配線と精密な薄膜形成の統合プロセス提案が可能になるとしている。
