ウシオ,ALD成膜装置(原子層堆積装置)の販売を開始

著者: sugi

ウシオ電機は,フィンランドPicosun Oy(ピコサン)と日本における販売代行契約を締結し,ピコサンのALD成膜装置(原子層堆積装置)の販売を開始した(ニュースリリース)。

近年,MEMS分野を中心に高アスペクト比や微細三次元構造体が求められる半導体関連デバイス製造では,より精密かつ薄い膜厚形成技術が求められており,成膜方法の1つであるALD(原子層成長法)が注目されている。

ピコサンは,1974年に世界で初めてALDの技術開発に携わったメンバーを中心に設立されたALD成膜装置の専業メーカーで,より均一な成膜技術とカスタムメイド対応を特長としている。

今回の契約締結によりウシオ電機は,同社の露光装置「UXシリーズ」などと,ピコサンのALD成膜装置を組み合わせることで,様々な半導体関連デバイス分野における微細化配線と精密な薄膜形成の統合プロセス提案が可能になるとしている。

キーワード:

関連記事

  • 京大など、有機半導体薄膜の構造を分子レベルで正確に解明

    京都大学とオーストラリア グラーツ工科大学は、有機半導体が基板上でつくる厚さ数nmの超薄膜の構造を分子レベルで正確に解明することに成功した(ニュースリリース)。 有機材料は同じ化合物でも複数の異なる結晶構造をとることがで…

    2026.01.30
  • 東大と理研、量子センシングの応用に期待される薄膜振動子の作製に成功

    東京大学と理化学研究所は、エピタキシャル成長した高品質な窒化チタン薄膜を用いて、損失の少ない高性能な薄膜振動子を作製することに成功した(ニュースリリース)。 微細加工技術によって作製された機械振動子は、光やマイクロ波を用…

    2025.12.17
  • 筑波大,発光スペクトルで鉄酸化物薄膜の作成中解析

    筑波大学の研究グループは,電子デバイスなどの材料に用いる鉄酸化物薄膜の作製において,反応性スパッタ中に生じるプラズマ発光スペクトルの全波長データを機械学習で解析し,生成する薄膜の価数状態と成長速度をリアルタイムに推定する…

    2025.09.17
  • 北大,簡便な圧力制御で高性能薄膜トランジスタ開発

    北海道大学の研究グループは,危険な水素ガスや複雑な圧力制御を用いずに,電界効果移動度約90cm2 /V·sの高性能薄膜トランジスタの開発に成功した(ニュースリリース)。 近年,次世代ディスプレー用薄膜トランジスタとして,…

    2025.08.21
  • 住友重機械,ペロブスカイトPV向けの成膜技術を開発

    住友重機械工業は,次世代の太陽電池として期待されるペロブスカイト太陽電池に欠かせない電子輸送層と呼ばれる極薄の膜を,安価な材料を用いて環境負荷の少ないプロセスで形成する新規技術の開発に成功した(ニュースリリース)。 数種…

    2025.08.19
  • 理科大ら,薄膜生成時の枝分かれ現象をAIで解明

    東京理科大学,岡山大学,京都大学,筑波大学は,トポロジーと自由エネルギーを活用した機械学習(AI)解析を実施し,薄膜結晶の電気的特性に大きな影響を与える樹枝状構造の枝分かれメカニズムを明らかにした(ニュースリリース)。 …

    2025.04.16
  • 阪大,半導体材料に期待の二酸化バナジウム超薄膜化

    大阪大学の研究グループは,二次元材料のひとつである六方晶窒化ホウ素(hBN)の上に,パルスレーザー蒸着法を用いて二酸化バナジウム(VO2)の薄膜結晶を成長させ,その厚さを薄くしても性能が劣化せず,約10nmの超薄膜におい…

    2025.02.20
  • 東北大ら,研磨不要のAu薄膜表面平滑化技術を開発 

    東北大学,産業技術総合研究所,関東化学は,表面が粗いAuめっき膜を平滑なAu薄膜に重ねる付加的な平滑化手法を新たに開発した(ニュースリリース)。 次世代小型電子デバイスの実装工程には,熱によるダメージや残留応力を避けるた…

    2025.01.28

新着ニュース

人気記事

編集部おすすめ

  • オプトキャリア