ウシオ,ALD成膜装置(原子層堆積装置)の販売を開始

ウシオ電機は,フィンランドPicosun Oy(ピコサン)と日本における販売代行契約を締結し,ピコサンのALD成膜装置(原子層堆積装置)の販売を開始した(ニュースリリース)。

近年,MEMS分野を中心に高アスペクト比や微細三次元構造体が求められる半導体関連デバイス製造では,より精密かつ薄い膜厚形成技術が求められており,成膜方法の1つであるALD(原子層成長法)が注目されている。

ピコサンは,1974年に世界で初めてALDの技術開発に携わったメンバーを中心に設立されたALD成膜装置の専業メーカーで,より均一な成膜技術とカスタムメイド対応を特長としている。

今回の契約締結によりウシオ電機は,同社の露光装置「UXシリーズ」などと,ピコサンのALD成膜装置を組み合わせることで,様々な半導体関連デバイス分野における微細化配線と精密な薄膜形成の統合プロセス提案が可能になるとしている。

その他関連ニュース

  • 【OPK】各種光学薄膜を設計から製膜までワンストップでサポート 2024年07月18日
  • 名大,大面積ナノシート膜の高速成膜法を開発 2024年07月18日
  • 公大,MOF結晶の配向による高品質な薄膜を作製 2024年07月18日
  • ラムリサーチ,パルスレーザー成膜装置を発売 2024年04月02日
  • 公大ら,2光子光電子分光法で有機分子薄膜を観測 2024年03月04日
  • 理研ら,PV用シリコン薄膜堆積条件の最適化法を開発 2024年02月20日
  • 東大,極性単結晶薄膜を塗布形成できる有機半導体開発 2024年01月30日
  • 中部大,10%まで伸ばせる反射防止膜材料を開発 2023年12月13日