ギガフォトンは，高信頼性半導体リソグラフィ用エキシマレーザーを応用した，「GIGANEX」シリーズのアニール向けエキシマレーザーの開発に成功，ブイテクノロジーの極小レーザーアニール装置に搭載され，大型液晶製造設備工場でのLTPS（低温多結晶シリコン）向けに出荷されたと発表した（ニュースリリース）。

近年同社は，半導体リソグラフィ用エキシマレーザーで培った技術を他の分野で応用するため，FPD製造における，a-Si（アモルファスシリコン）膜の極小レーザーアニール工程用エキシマレーザーの開発を進めてきた。

このほど開発に成功した新型エキシマレーザーの試作機をパネルメーカーへ出荷した。2016年5月22-27日に米国で開催されたDisplay Week 2016では，試作パネルが出展されている。

シリーズのアニール向けエキシマレーザーは，ブイテクノロジー製装置専用機であり，極小レーザーアニール工程の光源として開発された。

極小レーザーアニールの特長は，既存のa-Siのパネル製造工程に導入してa-Siをp-Si（ポリシリコン）へ結晶化することにより，従来のa-Siでは作ることができなかった8Kなどの高精細パネルの製造が可能になることにある。

さらに，従来のレーザアニールでは実現できなかった大型パネルサイズに適しており，50-70インチのTVパネルを製造する大型液晶製造設備工場でも対応できるという。