SEMI,2014~16年のシリコンウェハ出荷面積,過去最高水準が継続する見込みと発表

SEMI は,2014年10月6日(米国時間),半導体向けシリコンウェハ出荷面積の年次予測を発表した(ニュースリリース)。

この予測は,2014年~2016年のシリコンウェハの需要量見通しを提供するもの。 それによると,鏡面ウェハおよびエピタキシャルウェハの合計出荷面積が,2014年は94億1,000万平方インチ,2015年は98億4,000万平方インチ,2016年は101億6,300万平方インチとなる予測結果となった。

2014年は2010年に記録された過去最高値をついに更新し,2015年,2016年も,過去最高水準が継続する見込みだとしている。

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