産業技術総合研究所（産総研）は，産総研の研究施設と成果の一体的な利用を促進するため，新たな共用施設利用制度の運用を平成25年12月1日より開始し，企業などに利用しやすい制度とした。

この制度では，LSI量産工場に匹敵し，国内公的研究機関では最大規模のスーパークリーンルーム産学官連携研究棟（以下「SCR」という）を当面の利用対象とし，企業などにおける研究開発に関連した事業活動での一層の活用と，産総研のオープンイノベーションハブ機能の強化を目指す。

この制度は，つくばイノベーションアリーナナノテクノロジー拠点（TIA-nano）事業強化の一環として整備され，特にSCRの利用促進により，半導体関連企業などへの研究開発支援の充実と促進が期待される。

今回の制度での対象施設・装置は、SCRに設置されている約100台の半導体製造装置。今後，産総研の研究成果が活用されている他の大型研究施設，特殊装置などにも適用の範囲を広げていく予定。

新制度の特長は，
1．利用約款に基づいた申請・回答ベースの簡便な利用手続き
2．利用により発生した知的財産権は原則として利用者に帰属
3．明瞭な秘密情報管理ルールの遵守
4．単価表ベースによる利用料金で，利用コストの見通しが容易

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