Cymer,ASMLのEUVリソグラフィで40Wの出力を確認

米国リソグラフィ用光源大手のCymerは,オランダ・ASMLのEUVリソグラフィでMOPA(Master Oscillator Power Amplifier)方式によるプレパルス連続運転において,40WのEUV光を確認したと,2月24~28日に開催された国際会議「SPIE Advanced Lithography」の中で報告した。

線幅1Xnmの半導体微細加工に向けては,自己組織化材料を利用した微細パターニング(DSA)技術も進展しているほか,ニコンではArF液浸スキャナでも対応できるとの報告もある。EUVリソグラフィでは量産装置の確立に加えて,レジスト材料やマスク,計測技術などの確立も不可欠とされており,企業・関連団体では実用化に向けて開発を加速させている。