本シンポジウムは、わが国の半導体・集積回路技術分野における特色ある講演会として発足して以来、今回で第 87 回を迎えます。半導体集積回路の分野では、さらなる集積度と性能の向上が続いており、多様な技術の研究開発が進められています。第 87 回シンポジウムでは、先端 CMOS、三次元集積回路、メモリ、量子コンピュータ、AI エレクトロニクスの各デバイス技術に加え、アナログ・デジタル混載集積回路技術、最先端のプロセス技術や分析技術、半導体産業の動向に関する 17 件の招待講演を予定しています。また、一般講演も募集しており、若手研究者や学生が研究成果を発表する場を提供します。半導体集積回路の研究開発や事業に従事する方々に、2 日間に亘る活発な討論の場を提供します。

◇ 第１日 ◇ 8 月 30 日（水） 9:30～17：50
< 9:30～ 9:40> 開会の挨拶
< 9:40～10:20>　1. アナログ・デジタル混載集積回路技術の概要　テックイデア・東京工業大学 松澤 昭
<10:20～11:00>　2. 経済産業省の「半導体デジタル産業戦略」について　経済産業省 金指 壽
<11:00～11:40>　3. 電子機器・半導体市況の回復シナリオ～ChatGPT、カーボンニュートラルが牽引役となるか～　インフォーマインテリジェンス・C&Dコンサルティング 南川 明
<11:40～11:50> 午前の発表についての全体質疑
<11:50～13:00> 昼 食
<13:00～13:40>　4. TSVを用いた三次元集積回路技術とそのバイオメディカル応用　 東北大学 田中 徹
<13:40～14:20>　5. 未来に向けたＤＲＡＭメモリソリューション　マイクロンメモリ ジャパン 白竹 茂
<14:20～14:30> 午後前半の発表についての全体質疑
<14:30～14:45> 休 憩
<14:45～15:25>　6. イオン液体の高分子デザイン性によるリザバー特性制御の試み 東京理科大学 木下健太郎
<15:25～16:05>　7. シリコン量子ビット素子開発のための集積デバイス工学　産業技術総合研究所 森 貴洋
<16:05～16:45>　8. 大規模集積化に向けたシリコン量子コンピュータの研究開発　日立製作所 李 憲之
<16:45～16:55> 午後後半の発表についての全体質疑
<16:55～17:10> 休 憩
<17:10～17:50> 一般講演セッション（ポスター）
<17:50～19:30> 情報交換会

◇ 第２日 ◇ 8 月 31 日（木） 9:40～17:45
< 9:40～10:20>　9. 次世代 IoT 社会を拓く不揮発性ロジック LSI 技術とその応用展開 東北大学 夏井雅典
<10:20～11:00>　10. Magnetoresistive Random Access Memory Products: Present and Future (tentative title) Everspin Technologies Sumio Ikegawa
<11:00～11:40>　11. スピントロニクスデバイスの製造プロセス キヤノンアネルバ 恒川孝二
<11:40～11:50> 午前の発表についての全体質疑
<11:50～13:00> 昼 食
<13:00～13:40>　12. 表面ラフネス散乱の非線形モデルにより決定される Si nMOSFETの電子移動度の妥当性と極薄膜チャネル材料の最適設計 東京大学 高木信一
<13:40～14:20>　13. 省エネルギー集積回路のための2D材料・デバイス技術　東京工業大学 若林 整
<14:20～14:30> 午後前半の発表についての全体質疑
<14:30～14:45> 休 憩
<14:45～15:25>　14. 硬Ｘ線光電子分光による高アスペクトトレンチにALD製膜したSiN 膜の分析 明治大学 小椋厚志
<15:25～16:05>　15. 原子層堆積法で作製したInOxチャネルを用いた酸化物トランジスタの特性　物質・材料研究機構 生田目俊秀
<16:05～16:45>　16. 微細回路形成のための無電解銅めっき技術　奥野製薬工業 北 晃治
<16:45～17:25>　17. EUVリソグラフィー世代における塗布・現像技術最新動向 ＳＣＲＥＥＮセミコンダクターソリューションズ 春本将彦
<17:25～17:35> 午後後半の発表についての全体質疑
<17:35～17:45> 優秀発表賞贈呈、閉会の挨拶