ギガフォトン,450mmウェハ・マルチパターニング露光装置対応,ArFエキシマレーザ「GT64A」を出荷

ギガフォトンは,同社の450mmウェハ・マルチパターニング対応液浸露光装置向けArFエキシマレーザ「GT64A」の初号機を露光機メーカへ出荷したと発表した。

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世界最高レベルのレーザ発振効率をベースに,450mmウェハ・マルチパターニング露光においても高いスループットを可能にする120Wの大出力を実現。出力の自動可変にも対応しており,顧客のプロセスに応じた最適な光量を供給する。

また,マルチパターニング露光において重要となる,高いパターン重ね合わせ精度(オーバーレイ)の実現,クリティカルディメンジョンの制御,そしてラインエッジラフネスの低減のため,全出力領域に渡り,高い安定性(エネルギー,スペクトル,ビーム形状)と長いパルス幅を達成している。更に,開発コンセプトを「環境負荷低減」に置き,電気,ガス,冷却リソースの設備コストを極限まで抑制した。

主仕様
GT64A
発振波長 (nm) 193
平均出力 (W) 60 – 120
パルスエネルギー (mJ) 10.0 – 20.0
発振周波数(Hz) 6,000
スペクトル幅(95 %エネルギー積算、E95, pm) 0.25

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