ニコンは，Research Foundation for the State University of New York（ニューヨーク州立大学の研究財団，SUNY研究財団）との間で，プロセス開発向け450mmウェハ対応ArF液浸露光装置の販売とウェハパターニングの受託について契約を締結し，受注した。 装置の出荷は，2015年4月を予定している。

この450mmウェハ対応ArF液浸露光装置は，College of Nanoscale Science and Engineering（以下CNSE）に本部を置くGlobal 450 Consortium（以下G450C）の会員企業によって，プロセス開発，評価，デモンストレーション等に使用されることになる。G450Cの目的は，半導体製造工程における重要な転換点となる300mmウェハから450mmウェハへの移行が円滑に進むようサポートすることであり，CNSEのAlbany NanoTech Complexに最先端のインフラを構築して450mmウェハ対応装置の能力とプロセスを実証してゆく計画。

ニコンもエンジニアを現地に派遣し，リソグラフィに関するソリューションを提供する。450mmプロセス開発の機会をG450Cへ早期に提供することにより，450mmウェハ対応ArF液浸露光装置の業界標準化を目指す。今回の450mmウェハ対応ArF液浸露光装置の受注は，先般の大手デバイスメーカからの受注に次ぐもの。

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