内容／プログラム：
　プラズマプロセスは、エレクトロニクス分野では先端デバイスの開発・製造を支える技術であるとともに、医療やエネルギー・環境応用を始めとする幅広い分野でも欠くことのできない基盤技術となりつつあります。このような背景を踏まえ、本講習会では産業応用で必要とされるプロセスの基礎と高周波プラズマの生成制御について、プラズマ分野を代表する先生方からご講義を頂くと共に、その応用プロセスとして、半導体露光用EUV光源を構成するプラズマの計測技術や、近年ドライエッチング分野で最先端の話題である原子層エッチング（Atomic Layer Etching; ALE）技術、及び、機械学習のプラズマプロセス応用技術に関する話題も含め、第一線でご活躍の先生方よりご講義を頂きます。初学者から先端の研究開発者まで幅広い皆様のご参加をお待ち申し上げます。