▼【基調講演】先端レーザーによる微細加工の展望 小林洋平（東大）
▼マイクロ・ナノ光造形法の進展とフォトニクス・MEMS応用 丸尾昭二（横浜国大）
▼レーザー転写による付加型パターニング－光が創り出す微小粒子と薄膜の微細パターン－ 奈良崎愛子（産総研）
▼アディティブマニュファクチャリングのための高出力青色半導体レーザー開発 塚本雅裕（阪大）
▼リソグラフィー応用光源（DUV/EUV）の最近の進展 溝口計（ギガフォトン）
▼EUVリソグラフィーによる半導体の微細加工 井谷俊郎（阪大）
▼微小球光共振を用いた形状標準のナノ精度計測 道畑正岐（東大）
▼局在プラズモン制御による超解像光マニピュレーション 田中嘉人（東大）
▼プラズモン光ピンセットによるDNAの選択的光捕捉 東海林竜也（大阪市大）
▼光マニピュレーション科学～ナノ構造に基づく新型光ピンセット 坪井泰之（大阪市大）
- 参加費：
- 一般：5,000円、学生・シニア：2,000円（資料代含む，当日持参）
- URL：
- http://www.comemoc.com/
お問合せ先：東芝 木村重哉
E-mail：shigeya.kimura@toshiba.co.jp
