ギガフォトンは2月18日，現在開発中のEUVスキャナー用レーザ生成プラズマ（LPP）光源のプロトタイプ機において，半導体量産対応レベルの出力140W，デューティサイクル50%にて連続運転を達成したと発表した（ニュースリリース）。

この成果は，これまで同社が開発を続けてきた，20μm以下の微小ドロップレットの供給技術，固体レーザによるプリパルスとCO2レーザによるメインパルスの組み合わせ，磁場を使ったデブリ除去技術をより進化させたことによって達成された。

今回達成した140W，デューティサイクル50%連続運転という数値は，量産対応EUVスキャナの実現が最終段階にさしかかったことを意味する。今後同社では，プロトタイプLPP光源で2015年末までに，メモリ等への量産対応目安である250Wレベルの達成を目指して更なる研究開発に取り組む。

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