NEDOと立命館大学、クリスタル光学は、ガラス基板用研磨材に用いられる希少金属セリウムの使用量を半減できる研磨パッドの開発に成功した。

今回開発した研磨パッドは、フラットパネルディスプレイやハードディスクドライブ等のガラス基板用最終研磨に用いられるもので、ベースであるウレタン樹脂に新たにエポキシ樹脂を添加することで、研磨能率を従来の約2倍に高めることに成功した。

この技術により、従来の半分の時間での研磨が可能となり、研磨材に用いられる希少金属セリウムの使用量を半減することができる。

詳しくはこちら。