真空プロセスには高純度化があたりまえとなっていますが，やはりパーティクルのモニタリングは重要です。ウィックスが出展するのは，レーザー光散乱方式のIn-situ計測用パーティクルモニターです。

プロセスチャンバーに挿入，あるいはチャンバー内に設置を可能としています。粒子識別能力は300nm以上。使用真空度は5,000Pa以下，対応粒子速度は＜4ｍ/s。生産管理に必要な不可欠なセンサーとなっています。