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半導体製造装置

半導体製造装置の記事一覧

全62件中 1〜10件目を表示

  • OIST，ミラー数を減らしたEUVリソグラフィーを提案

    沖縄科学技術大学院大学（OIST）の研究グループは，これまでの先端半導体製造の常識を覆すEUVリソグラフィー（極端紫外線露光技術）を提案した（ニュースリリース）。 EUVでは透過させるガラスのような透明な材料がないため，...

    2024.07.30
  • 宇大ら，EUV光源を効率化するレーザー照射法を開発

    宇大ら，EUV光源を効率化するレーザー照射法を開発

    宇都宮大学，東京大学，九州大学，理化学研究所，米パデュー大学，アイルランド国立大学ダブリン校，広島大学は，極端紫外（EUV）光源を高効率化するためのマルチレーザービーム照射法を提案し，EUV光源を高効率化できることを実験...

    2024.07.30

  • TEL，EUV露光によるガスクラスタービーム装置発売

    東京エレクトロン（TEL）は，EUV露光による極微細パターニング工程向けガスクラスタービーム装置「Acrevia 」を発売すると発表した（ニュースリリース）。 この装置は，EUV露光による極微細なパターニング工程において...

    2024.07.10

  • 信越化学，半導体パッケージ基板製造装置と工法開発

    信越化学は，半導体パッケージ基板製造装置と新工法を開発した（ニュースリリース）。 半導体の高性能化をコスト低減の面から支える技術として，回路を個片化して一つのパッケージに収めるチップレットが注目を集めている。この技術では...

    2024.06.20

  • ラムリサーチ，パルスレーザー成膜装置を発売

    米ラムリサーチは，次世代MEMS技術によるマイクおよび無線周波数（RF）フィルターを実現する，世界初の量産向けパルスレーザー成膜（PLD）装置を発表した（ニュースリリース）。 この製品のシステムは，スカンジウム含有量の最...

    2024.04.02

  • ギガフォトン，最新ArF液浸光源機種を出荷

    ギガフォトンは，新型ArF液浸露光装置用光源「GT80A」を出荷したと発表した（ニュースリリース）。 最先端デバイス製造においては，微細化と共に高い生産性が求められている。これらの最先端デバイスでは，ウエハーに転写される...

    2024.04.02

  • キヤノンMJ，半導体検査用ナノX線CT装置を発売

    キヤノンマーケティングジャパン（キヤノンMJ）は，国内独占販売契約を締結している米Sigray製で，最高空間分解能300nmを実現したナノX線CT装置「EclipseXRM-900」を，2023年12月15日より発売した...

    2023.12.19

  • ブイテク子会社，最速Siウエハー欠陥検査装置出荷

    ブイ・テクノロジーのグループ会社であるナノシステムソリューションズは，シリコンウエハー結晶欠陥のインライン検査を世界最速で実現する製品の出荷を開始した（ニュースリリース）。 AIサーバ等，最先端の用途に向けて製造される高...

    2023.12.13
  • ウシオとAMAT，サブミクロン配線向けDLTを開発

    ウシオとAMAT，サブミクロン配線向けDLTを開発

    両社は、人工知能（AI）時代のコンピューティングに求められる先進的基板をパターニングするために特別に設計された初のデジタルリソグラフィ装置を共同で市場投入する。 ウシオ電機と米アプライド マテリアルズ（AMAT）は12月...

    2023.12.13
  • DNP，3nm相当EUVフォトマスク製造プロセス開発

    DNP，3nm相当EUVフォトマスク製造プロセス開発

    大日本印刷（DNP）は，半導体製造の最先端プロセスのEUVリソグラフィに対応した，3nm相当のフォトマスク製造プロセスを開発した（ニュースリリース）。 近年，EUV光源を用いるEUVリソグラフィの技術が確立し，2023年...

    2023.12.13

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