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全11件中 1〜10件目を表示
  • 東大ら,半導体露光プロセスのみで平面レンズを作製

    東京大学とJSRは,半導体露光プロセスのみを用いて平面レンズを大量生産することが可能な手法を開発することに成功した(ニュースリリース)。 レンズは,カメラ,センサーなどあらゆる光学機器に使用される最も基本的な光学素子の一...

    2025.01.17
  • 富士フイルム,EUV用フォトレジスト/現像液を発売

    富士フイルムは,ネガ型の極端紫外線(EUV)向けフォトレジスト(EUVレジスト)および現像液(EUV現像液)の販売を開始した(ニュースリリース)。 光源に非常に短い波長の光を用いてウエハーに微細な回路パターンの描写が可能...

    2024.11.05
  • 東大,半導体レジストの現像前超高速検査技術を開発 

    東大,半導体レジストの現像前超高速検査技術を開発 

    東京大学の研究グループは、半導体製造に不可欠なレジスト材料の潜像を世界最高のスループットで可視化することに成功した(ニュースリリース)。 ムーアの法則に従い,半導体チップの性能は指数関数的に向上してきたが,これを支えるリ...

    2024.09.03
  • ラムリサーチ,EUVドライレジストでエコシステム

    米ラムリサーチは,米インテグリス,三菱ケミカルグループの米Gelestとの戦略的な協力体制を発表した(会社HP)。 この協力体制により,次世代半導体製造に用いられるEUV(極端紫外線)リソグラフィのためのラムリサーチのド...

    2022.07.14
  • 2026年フォトレジスト市場,2020年比52.9%増に

    2026年フォトレジスト市場,2020年比52.9%増に

    富士経済は,感光性樹脂およびその原材料の世界市場を調査し,その結果を「2021年 光機能材料・製品市場の全貌」にまとめた(ニュースリリース)。 それによると,半導体前工程に用いられるg線/i線,KrF,ArF,液浸ArF...

    2021.07.12
  • 2024年半導体材料市場,405.3億ドルに

    富士経済は,5GやAI,自動運転車などの普及に伴い,需要増加が予想される半導体用材料の市場を調査し,その結果を「2020年 半導体材料市場の現状と将来展望」にまとめた(ニュースリリース)。 それによると,2019年はメモ...

    2020.09.07
  • ラムリサーチ,EUV露光向けの技術を発表

    米ラムリサーチは極端紫外線(EUV)リソグラフィのパターニング向けにドライレジストテクノロジーを発表した(ニュースリリース)。 同社は業界をリードする成膜とエッチ工程との組み合わせのほか,オランダASMLやベルギーime...

    2020.03.03
  • JST,高性能EUV露光モジュール開発を成功と認定

    科学技術振興機構(JST)は,産学共同実用化開発事業(NexTEP)の開発課題「リソグラフィ用レジストの高性能化モジュール」の開発結果を成功と認定した(ニュースリリース)。 この開発課題は,大阪大学の研究グループらの研究...

    2018.12.05
  • フォトレジスト2021年市場,129.1%増の1500億円に

    富士キメラ総研は,次世代テクノロジーによって需要が押し上げられ,かつ新規開発によりニーズが創出され成長が期待できるエレクトロニクス製品向け先端材料市場を調査し,その結果を「2018年 エレクトロニクス先端材料の現状と将来...

    2018.03.13
  • 日立化成,微細回路形成用感光性フィルムでJPCA賞

    日立化成は,微細回路形成用感光性フィルム「RY-5100UTシリーズ」にて,「第13回JPCA賞(アワード)」を受賞したと発表した(ニュースリリース)。 「JPCA賞(アワード)」は,電子回路技術および産業の進歩発展に顕...

    2017.06.06

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