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リソグラフィ

リソグラフィの記事一覧

全25件中 1〜10件目を表示

  • OIST，ミラー数を減らしたEUVリソグラフィーを提案

    沖縄科学技術大学院大学（OIST）の研究グループは，これまでの先端半導体製造の常識を覆すEUVリソグラフィー（極端紫外線露光技術）を提案した（ニュースリリース）。 EUVでは透過させるガラスのような透明な材料がないため，...

    2024.07.30

  • NVIDIA，計算機リソグラフィを生成AIで大幅高速化

    NVIDIAは，台湾TSMCと米Synopsysが，NVIDIAのコンピュテーショナル リソグラフィ（計算機リソグラフィ）プラットフォームを使用して次世代半導体チップの生産を開始すると発表した（ニュースリリース）。 TS...

    2024.03.21

  • 京大ら，1nm半導体量子細線の作製に成功

    京都大学，東京大学，独フランクフルト大学は，グラファイト基板上に塩化ルテニウム（半導体）のナノ量子細線を作製する手法を発見した（ニュースリリース）。 半導体製造において，現在主流の電子ビーム・リソグラフィなどでは，細線の...

    2023.05.08

  • 阪大ら，露光でマイクロロボットをその場製造

    大阪大学，北陸先端科学技術大学院大学，岐阜大学は，マイクロ流路内でマイクロロボットの部品をプリント成形し，その場で組み立てることに成功した（ニュースリリース）。 マイクロロボット，特に柔軟な構造を持つロボットは，生物医学...

    2022.08.26

  • EVG，NIL向け製造サービスを開始

    オーストリアEV Groupは，ユーザーを支援する新サービスとして，「EVGステップ＆リピート（S&R）マスタリングショップ」を設立したことを発表した（ニュースリリース）。 このサービスでは，最新のEVG製装置...

    2021.08.03

  • ギガフォトン，微細化対応リソグラフィ光源を量産

    ギガフォトンは，新技術を採用した最新半導体製造ArF液浸用リソグラフィ光源「GT66A」の量産出荷を開始した（ニュースリリース）。 最先端デバイス製造は，現在，ロジックデバイスでは3nmノードのプロセス開発が開始，DRA...

    2020.12.22

  • 名大ら，光によるレリーフ構造形成法に新提案

    名古屋大学と立教大学理の研究グループは，光に反応しない高分子膜でも表層のみの分子膜の光反応で，フォトパターン通りに膜全体が大きく動き，表面レリーフ構造ができる現象を見出した（ニュースリリース）。 1995年にアゾベンゼン...

    2020.08.04

  • ギガフォトン，新製品のKrFエキシマレーザー出荷

    ギガフォトンは，半導体製造リソグラフィ用光源の技術を応用したGIGANEXシリーズの新製品，KrFレーザー「G300K」を3月に出荷した（ニュースリリース）。 この波長248nmのKrFエキシマレーザーは，同社のリソグラ...

    2020.04.15

  • ラムリサーチ，EUV露光向けの技術を発表

    米ラムリサーチは極端紫外線（EUV）リソグラフィのパターニング向けにドライレジストテクノロジーを発表した（ニュースリリース）。 同社は業界をリードする成膜とエッチ工程との組み合わせのほか，オランダASMLやベルギーime...

    2020.03.03

  • ギガフォトン，露光用ArF／KrFレーザーを発表

    ギガフォトンは，2020年，新技術を採用した最新半導体製造リソグラフィ用光源，ArF液浸用レーザー「GT66A」とKrFレーザー「G60K」の2機種を，新製品としてラインナップすると発表した（ニュースリリース）。 近年の...

    2020.02.25

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