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  • 東北大,光電融合の不揮発性磁気メモリ材料を開発

    東北大学,韓国科学技術院(KAIST),米マサチューセッツ工科大学(MIT)と協力し,光で情報記録が可能であるコバルト/白金構造が,今回電気でも効率的情報記録できることを示し,光ファイバーからでも電気配線からでもデータを...

    2023.07.06
  • 東北大ら,相変化メモリの消費電力減に新材料発見

    東北大学,産業技術総合研究所,慶應義塾大学は,次元層状物質であるNbTe4が,アモルファス/結晶相変化により,一桁以上の大きな電気抵抗変化を生じることを発見した(ニュースリリース)。 外場によって生じる相の変化により大き...

    2023.07.03
  • 阪大,磁気ゆらぎを利用し巨大磁気抵抗効果を観測

    大阪大学の研究グループは,フラストレート磁性体と呼ばれる磁気ゆらぎの強い結晶を用いて,単一結晶のみで巨大磁気抵抗効果の観測に初めて成功した(ニュースリリース)。 巨大磁気抵抗効果とは,磁気をもつ鉄やコバルトのような磁性薄...

    2020.03.02
  • 2021年,300mmファブ製造装置投資額は600億ドル

    SEMIは,9月3日(米国時間),300mmファブの製造装置投資額が,2019年は減少するものの2020年に緩やかに回復し,2021年には600億ドルと過去最高記録を更新するとの予測を発表した(ニュースリリース)。 この...

    2019.09.04
  • SEMI,2020年半導体前工程への投資額20%増を予測

    SEMIは,6月11日(米国時間),半導体産業の前工程ファブ装置への投資額は2019年(暦年)に484億ドルと前年比19%の減少をした後,2020年は20%増の584億ドルへ反発するとの予測を発表した(ニュースリリース)...

    2019.06.12
  • 東大,IGZOを用いた強誘電体メモリーを開発

    東京大学は,8nmの金属酸化物半導体IGZOをチャネルとしたトランジスター型強誘電体メモリー(FeFET)の開発に成功した(ニュースリリース)。 強誘電体二酸化ハフニウム(HfO2)をゲート絶縁膜としたFeFETは,低消...

    2019.06.12
  • 半導体前工程装置市場,2019年に減少も2020年は過去最高へ

    SEMIは,3月12日(米国時間),半導体前工程装置の世界市場は2019年に14%減の530億ドルとなるものの,2020年に急速に回復し27%増の670億ドルに達し,過去最高金額を更新するとの予測を発表した(ニュースリリ...

    2019.03.14
  • 産総研ら,新規メモリーに必要な電圧スピン制御を達成

    産業技術総合研究所(産総研),東北大学,物質・材料研究機構,大阪大学,高輝度光科学研究センターは共同で,電圧制御型の磁気メモリー(電圧トルクMRAM)用の新材料を開発し,高効率な電圧スピン制御を実現した(ニュースリリース...

    2017.12.04
  • 東芝,磁化反転不揮発性磁気メモリに新書込み方式

    東芝,磁化反転不揮発性磁気メモリに新書込み方式

    内閣府 総合科学技術・イノベーション会議が主導する革新的研究開発推進プログラム(ImPACT)の研究開発プログラムの一環として東芝は,電圧書込み方式の不揮発性磁気メモリの新たなアーキテクチャ技術を開発した(ニュースリリー...

    2016.12.05
  • 千葉工大ら,高温で動作する不揮発性メモリーを開発

    千葉工業大学,産業技術総合研究所,物質・材料研究機構は共同で,白金ナノギャップ構造を利用し,600 ℃でも動作する不揮発性メモリー素子をはじめて開発した(ニュースリリース)。 通常のシリコン半導体を用いたメモリー素子では...

    2016.10.12

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