| 会期： | 2018年8月31日（金）13：00～17：00 |
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| 会場： | 日本レーザー本社3階大会議室（東京都新宿区） |
| 主催： | 光産業技術振興協会 光材料・応用技術研究会 |
▼産業用レーザーの高出力化（CLEO情報を含む） 平等拓範（分子研）
▼VCSELとその応用 光通信からレーザー給電まで 宮本智之（東工大）
▼産業応用向け高出力VCSELモジュールの開発 泉谷一磨（リコー）
▼近接場光エッチングによるサブナノ平滑化の進展 八井崇（東大）
▼ステルスダイシング～内部吸収型レーザーダイシング技術とその応用 河口大祐（浜ホト）
| お問合せ先： | 光産業技術振興協会 間瀬，山田 |
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| TEL： | 03-5225-6431 |
| FAX： | 03-5225-6435 |
| E-mail： | omat@oitda.or.jp |
| URL： | http://www.oitda.or.jp/main/study/omat/omat.html |
