ウシオ電機は，MEMSの研究開発・製造向けに最適化した一括投影露光装置「UX4 （ユーエックス・フォー）」を，ドイツの研究開発機関であるCiS Forschungsinstitut für Mikrosensorik und Photovoltaik GmbH（CiS）から受注し，欧州の100%子会社USHIO EUROPE B.V.を通じ，11月に納入する（ニュースリリース）。

UX4は，マスクやワークにダメージを与えない完全非接触の一括投影露光方式を採用しており，段差のある基板や厚膜レジストなどに対応した露光装置。

MEMSやパワーデバイスなど，製造するデバイスに合わせてカスタマイズした装置をシリーズ展開しており，裏面アライメントや両面同時露光などの各種機能が搭載可能な他，一括全面露光が可能なウェハサイズはφ200mm，最小解像度はL/S＝2μmを有している。

CiSはこれまでプロキシミティ露光装置を使用してきたが，さらなる微細化や生産性向上のために，同社の一括投影露光装置を採用したという。これにより，MEMSや化合物半導体分野の生産性向上と，高精度化，高密度化に向けた研究がより加速するものと期待しているとしている。

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