2013年第2四半期のシリコンウェハ出荷面積は増加

半導体国際工業会のSEMIは,8月6日(米国時間),SEMI Silicon Manufacturers Group (SMG)によるシリコンウェハ業界の分析結果をもとに,2013年第2四半期(暦年)の世界シリコンウェハ出荷面積は2013年第1四半期から増加したと発表した。

2013年第2四半期に出荷されたシリコンウェハ面積は23億9,000万平方インチで,2013年第1四半期の21億2,800万平方インチから12.3%増加した。また,前年同期比では2.3%減となった。

SEMI SMGのチェアマンでLG Siltronのグローバル・マーケティングディレクターのブラッド・ホン氏は次のように述べている。「直近の第2四半期のシリコンウェハ出荷面積は,第1四半期とは対照的に増加した。そのため,今年上半期のシリコンウェハ出荷面積は,2012年上半期と比べてわずかながら増加傾向となった」。

■ 半導体用シリコンウェーハ*出荷面積四半期毎動向 (百万平方インチ)

2012年第2四半期  2013年第1四半期  2013年第2四半期
 2,447  2,128  2,390

*太陽電池用を含まず

詳しくはこちら。