【注目企業】真空中パーティクルモニター―ウィックスの出展製品

真空プロセスには高純度化があたりまえとなっていますが,やはりパーティクルのモニタリングは重要です。ウィックスが出展するのは,レーザー光散乱方式のIn-situ計測用パーティクルモニターです。

プロセスチャンバーに挿入,あるいはチャンバー内に設置を可能としています。粒子識別能力は300nm以上。使用真空度は5,000Pa以下,対応粒子速度は<4m/s。生産管理に必要な不可欠なセンサーとなっています。

同社はこのほか,インフィコン社製質量ガス分析計(RGA)や水晶振動子・膜厚コントローラ・モニター・センサーも出展する予定です。

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